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我司将于9月27-29日参展上海IPB2011粉体展

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  • 发布时间:2013-03-14 08:59

我司将于9月27-29日参展上海IPB2011粉体展

【概要描述】

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IPB 2011 第九届国际粉体工业/散装技术展览会暨会议

    时间:2011年9月27-29日

    地点:上海国际展览中心

    地址:上海市兴义路77号

 

    公司展位号1211,届时将携干法激光粒度仪HELOS/RODOS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm),并有中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。

 

    德国新帕泰克专利的干法粒度仪HELOS/RODOS,以其“干样干测”、“瞬时分散,瞬时测量”的优势,广泛以用于粉体行业的粒度分析与测量,具有分散效果好、测试速度快、准确性与精度高等优点。

 

    动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上,提供粒形信息,为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。

 

    纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影响,测试浓度高,准确性好,同时提供稳定性分析,是分析纳米粉体的最佳选择。

德国新帕泰克有限公司(苏州代表处)版权所有

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