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我司将于6月21日-23日参加上海第十一届世界制药原料中国展

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  • 发布时间:2013-03-14 08:58

我司将于6月21日-23日参加上海第十一届世界制药原料中国展

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“第十一届世界制药原料中国展”(CPhI, ICSE & BioPh China 2011)暨“2011世界制药机械、包装设备与材料中国展”(P-MEC China 2011)将于2011年6月21日至23日上海新国际博览中心举办

公司展位号E1C05,届时将携干湿二合一激光粒度仪HELOS/OASIS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm)、超声衰减粒度仪OPUS(0.01-3000μm),并有德国专家及中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。

德国新帕泰克专利的干湿二合一粒度仪HELOS/OASIS,结合干法与湿法测试的双重优点,分散效果好、测试速度快、准确性与精度高。

动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上,提供粒形信息,为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。

纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影响,测试浓度高,准确性好,同时提供稳定性分析,是分析纳米粉体的最佳选择。

诚挚欢迎各界人士的莅临展位交流!

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